在芯片制造業(yè)中,光刻機(jī)至關(guān)重要,每顆芯片都需要經(jīng)過光刻技術(shù)的鍛造。荷蘭阿斯麥(ASML)公司是目前世界上唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,影響著全球芯片供應(yīng)。若想在這方面不被卡脖子,則需要我們國家在光刻機(jī)領(lǐng)域取得突破性研究成果。
據(jù)科技日報報道,2月25日,清華大學(xué)的一項科研成果刊登在《自然》上,這篇題為《穩(wěn)態(tài)微聚束原理的實驗演示》的論文,報告了一種新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”(SSMB)的首個原理驗證實驗。SSMB光源的潛在應(yīng)用之一就是作為未來EUV光刻機(jī)的光源。
SSMB原理驗證實驗示意圖
該實驗由清華大學(xué)工程物理系唐傳祥教授研究組和亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心、德國聯(lián)邦物理技術(shù)研究院合作完成。唐傳祥表示,基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機(jī)中最核心的“卡脖子”難題。但是,EUV光刻機(jī)的自主研發(fā)還有很長的路要走,這需要SSMB EUV光源的持續(xù)科技攻關(guān),也需要上下游產(chǎn)業(yè)鏈的配合,才能獲得真正成功。
責(zé)任編輯:莊婷婷
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